En raison de la résistance à la température élevée, de l'allongement et de la résistance à la corrosion des matériaux de tantale, des creusets en rotation de semi-conducteurs en plaques de tantale sont également appelés creusets de tantale. Les creusets de tantale sont principalement utilisés comme conteneurs d'isolation thermique pour l'équipement de fabrication de semi-conducteurs. L'isolation thermique et la concentration d'énergie rendent le processus d'évaporation plus stable et l'effet d'évaporation plus uniforme.

Notre crucible en tantlum tourné en semi-conducteur est un creuset de haute qualité conçu spécifiquement pour les processus exigeants dans la fabrication de semi-conducteurs, y compris le dépôt de couches minces, la pulvérisation et le revêtement d'évaporation. Fabriqués à partir de tantale de haute pureté (TA supérieur ou égal à 99,99%), ces creusets offrent une résistance exceptionnelle aux températures élevées, à la corrosion et à l'usure, garantissant des performances optimales dans les applications avancées semi-conductrices et à film mince. Fabriqués à l'aide de la méthode filée, ils fournissent une épaisseur uniforme, des propriétés mécaniques améliorées et une haute précision pour les processus critiques de semi-conducteurs.

Caractéristiques clés

✔ Résistance à haute température - capable de résister à des températures jusqu'à 3000 degrés, idéales pour les processus semi-conducteurs à haute température.
✔ Excellente résistance à la corrosion - La résistance inhérente au Tantalum à la corrosion dans les environnements réactives le rend parfait pour une utilisation dans le dépôt et la pulvérisation du vide.
✔ Résistance mécanique supérieure - La résistance et la durabilité à traction élevée garantissent une longue durée de vie, même sous la contrainte d'un cyclisme thermique élevé.
✔ Pureur élevée (supérieure ou égale à 99,99% TA) - minimise la contamination et assure des résultats de haute qualité dans la production de semi-conducteurs.
✔ Processus de fabrication filée - Mache-malin de précision pour fournir une épaisseur uniforme et des propriétés mécaniques améliorées, garantissant des performances cohérentes.

Applications

🔹 Fabrication de semi-conducteurs - Idéal pour une utilisation dans le dépôt de vapeur chimique (CVD), le dépôt physique de vapeur (PVD) et les processus de pulvérisation pour les plaquettes de semi-conducteur.
🔹 Dépôt de couches minces - Crucial pour la production de matériaux à couches minces dans les cellules solaires, la microélectronique et les revêtements optiques.
🔹 Cibles de pulvérisation - Convient aux cibles de pulvérisation de tantale utilisées dans la production de micropuces et la fabrication de circuits.
🔹 Recherche et développement - parfait pour les laboratoires et les environnements de R&D où la haute pureté et la précision sont essentielles pour les processus expérimentaux.